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銀粉對導(dǎo)電銀漿表面微結(jié)構(gòu)及導(dǎo)電性能的影響

銀粉對導(dǎo)電銀漿表面微結(jié)構(gòu)及導(dǎo)電性能的影響
1.1 導(dǎo)電銀漿的制備
為了保證試驗的可重復(fù)性和對比性,試驗制備的導(dǎo)電銀漿中銀粉、玻璃粉比例均保持一致,僅通過調(diào)整有機載體的加入量使導(dǎo)電銀漿的黏度一致。本試驗采用80%銀粉、5%的Bi 2 O 3 -B 2 O 3 -SiO 2 -ZnO 系無鉛玻璃粉和15%左右的有機載體,按照圖1所示的工藝流程制備導(dǎo)電銀漿,研磨至細(xì)度小于5 μm,控制銀漿黏度為200~230 Pa·s。

1.2 試樣制備
采用絲網(wǎng)印刷方式將制備的導(dǎo)電銀漿印刷于96%氧化鋁陶瓷基板上,絲網(wǎng)采用250目不銹鋼網(wǎng)版,電極為 10 mm×10 mm 方形,靜置流平 10 min后,放入紅外烘箱于150 ℃烘干8~10 min,保證膜層干透,隨后置入箱式燒結(jié)爐中,升溫至850 ℃燒結(jié)10 min,隨爐冷卻,制得測試樣品。

1.3 性能測試
用日本島津ss-550型掃描電鏡觀察膜層表面形貌;用廣州四探針儀科技的RTS-8型四探針儀測試膜層方阻;用無鉛焊錫(Sn96.5Ag3Cu0.5)將涂有助焊劑的鍍錫引線焊接于燒結(jié)成型的銀電極上,用PT-1198GTPL 型拉力試驗機測定電極膜層的附著力。

2 結(jié)果與討論
2.1 單一銀粉形貌對銀膜性能的影響
本試驗選用了4種不同形貌和物理特性的銀粉進(jìn)行研究。表1列出了銀粉的物理特性。

圖2是選用的4種銀粉的掃描電鏡照片。從圖2可看出,Ag-1為亞微米級不規(guī)則微晶銀粉,粒徑分布較寬,有少量團(tuán)聚;Ag-2銀粉為不規(guī)則形狀,團(tuán)聚程度低,分散性較好;Ag-3銀粉為類球形銀粉,顆粒尺寸較為均勻,團(tuán)聚程度低,分散性較好;Ag-4銀粉粒徑分布寬,形貌不規(guī)則,為球形銀粉或微晶銀粉多個球體連接在一起。

用4種銀粉分別制備了導(dǎo)電銀漿,印刷、燒結(jié)后測定銀膜性能。圖3是不同銀粉制備的導(dǎo)電膜層的方阻圖,從圖3可以看到,銀粉Ag-3制備的銀漿方阻***小為3.2 mΩ/□,導(dǎo)電性能***,其次是銀粉Ag-1和Ag-2,分別為3.9 mΩ/□和5.1 mΩ/□,導(dǎo)電性能***差的是Ag-4銀粉,方阻為7.4 mΩ/□。結(jié)合銀粉的物理特性和形貌分析,Ag-3的分散性***,且堆積密度***為5.6 g/cm 3 ,燒結(jié)時銀粉的接觸點***多,更容易進(jìn)行物質(zhì)傳遞,形成致密燒結(jié);銀粉Ag-1和Ag-2堆積密度逐漸變小,粉體之間孔隙較多,所以燒結(jié)時較Ag-1銀粉差;銀粉Ag-4是不規(guī)則形狀,銀粉之間不易堆積,非常容易形成孔洞,導(dǎo)致膜層致密性降低,因此導(dǎo)電性能會降低。

圖4是不同銀粉燒結(jié)膜層表面的掃描電鏡圖片。從圖4可見,Ag-1膜層比較致密,孔洞少,燒結(jié)后晶粒尺寸小;Ag-2和Ag-4膜層孔洞較多,粉體燒結(jié)程度低,網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)疏松,且空洞分布不均勻,導(dǎo)致導(dǎo)電性能降低;其中燒結(jié)性能能***的是Ag-3,膜層致密、均勻,且銀晶粒尺寸大,晶界少,銀顆粒連接緊密,分布均勻,導(dǎo)電性能優(yōu)于其他3種銀粉,這也與方阻測試結(jié)果一致。

根據(jù)Ruschau G R等對粉體顆粒堆積體系電阻的研究分析,銀膜的電阻由銀粉的內(nèi)阻、銀粉接觸電阻及隧穿電阻3部分組成。由于銀的電阻率很低,銀自身的電阻可以忽略不計,當(dāng)銀粉填充量達(dá)到一定程度時,隧穿電阻會很低,對膜層的電阻影響也較小。對銀膜層導(dǎo)電性影響***的是銀粉間的接觸電阻,接觸電阻的大小與銀粉顆粒間的接觸面積大小成反比,粉體堆積的致密度的提高,使接觸面積不斷增大,接觸電阻降低,從而減少銀膜層的方阻大小。銀粉的堆積密度大,銀粉間接觸面積大,燒結(jié)過程中,接觸的銀粉粒子容易燒結(jié)連接,形成致密導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò),Ag-3銀粉堆積***致密,因此導(dǎo)電性能***,其次是Ag-1、Ag-2。Ag-4銀粉堆積密度低,燒結(jié)過程中粉體接觸面積大幅降低,傳質(zhì)作用減弱,所以燒結(jié)后膜層孔洞多,燒結(jié)程度低,導(dǎo)電性能***差。

2.2 混合銀粉對銀漿膜層性能的影響
銀粉的粒徑和形貌對銀膜的導(dǎo)電性有較大的影響,按照Dinger-Funk粉體堆積理論,為了進(jìn)一步提高膜層致密性和導(dǎo)電性能,從增加粉體的燒結(jié)活性和提高粉體的填充性能兩個方面考慮,以Ag-3為主體銀粉,選用平均粒徑為50 nm的球形銀粉作為添加劑加入導(dǎo)電銀漿中,以期提高膜層的性能,在此基礎(chǔ)上,研究不同添加量形式下銀膜性能的變化情況,添加配比如表2所列。

圖5為納米銀粉添加量對膜層方阻的影響,從圖5可看出,隨著納米銀粉用量的增加,方阻從 3.2mΩ/□逐漸降低,添加量2%時方阻為2.9 mΩ/□,當(dāng)納米銀粉添加量為6%時,方阻***小,達(dá)到2.1 mΩ/□, 繼續(xù)增加納米銀粉加入量至8%時,方阻反而增大至3.0 mΩ/□。

分析認(rèn)為,隨著納米銀粉的加入,銀粉的堆積密度提高,孔隙率降低,燒結(jié)過程中接觸的面積增大,同時納米銀粉的燒結(jié)活性更高,所以形成的導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò)致密,導(dǎo)電性能好,當(dāng)納米銀粉從0增加到 6%時,導(dǎo)電性逐漸增加,方阻從 3.2 mΩ/□降到2.1 mΩ/□,導(dǎo)電性***,添加量達(dá)到了Dinger-Funk粉體堆積理論的***小孔隙率,此時的膜層***致密,方阻***小,達(dá)到***的效果;當(dāng)進(jìn)一步增加納米銀粉含量到8%時,超過這個***小孔隙率臨界值,大小粒徑的銀粉不匹配,則孔隙率增加,同時納米銀粉其粒徑小,銀粉顆粒間接觸面積相對較小,電子在顆粒內(nèi)部運行路程短,電子的隧穿次數(shù)顯著增加,導(dǎo)致接觸電阻和隧穿電阻均增大,因此繼續(xù)增加納米銀粉方阻會增大,孔洞增加,導(dǎo)電性變差,方阻增大至3.0 mΩ/□,膜層性能惡化。

為驗證上述分析,對導(dǎo)電膜層表面進(jìn)行了掃描電鏡分析。圖6是膜層微觀形貌照片,從圖6(A)當(dāng)中雖然看不出銀粉的原始形貌,各銀粉顆粒之間相互熔融形成網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu),但網(wǎng)絡(luò)中存在著大量的孔洞,致密度較差,晶界較多;但隨著納米銀粉添加量的增加,從膜層微觀形貌中可以看出,孔洞逐漸減少,膜層的致密性逐漸增加,圖6(C)中表觀形貌致密平整,銀粉顆粒緊密排列,融合在一起。但隨著納米銀粉含量的繼續(xù)增加,方阻反而增大,膜層的微觀結(jié)構(gòu)反而更疏松,孔洞更多,這從圖6(D)可以看出,與上述分析一致。

因此,通過調(diào)節(jié)合適的銀粉比例,能夠使銀漿燒結(jié)過程中不同銀粉顆粒相互填充,增加接觸和傳質(zhì)作用,發(fā)揮協(xié)同效應(yīng),可以使銀電極表面更加致密平整,導(dǎo)電膜層性能更好。

3 結(jié)論
(1)采用單一銀粉時,堆積密度越大,燒結(jié)時銀粉的接觸點越多,更容易進(jìn)行物質(zhì)傳遞,形成致密燒結(jié),燒結(jié)膜導(dǎo)電性能較好。
(2)不同形貌銀粉的混合搭配有助于減少燒結(jié)后膜層的孔洞,增加了銀粉之間的導(dǎo)電通路,從而大大減小膜層的方阻,提高銀漿綜合性能。
(3)球形銀粉中加入6%的納米銀粉時,燒結(jié)膜方阻***小,達(dá)到2.1 m?/□,膜層結(jié)構(gòu)***致密。


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